የሞለኪውላር ጨረር ኤፒታክሲ በከፍተኛ ቫክዩም ወይም እጅግ በጣም ከፍተኛ ቫክዩም (1 x 10) ውስጥ ተከናውኗል።^-8ፓ) አካባቢ.የሞለኪውላር ጨረር ኤፒታክሲ በጣም አስፈላጊው ገጽታ ዝቅተኛ የማስቀመጫ መጠን ነው, ይህም ብዙውን ጊዜ ፊልሙ በሰዓት ከ 3000 nm ባነሰ ፍጥነት እንዲያድግ ያስችለዋል.እንዲህ ዓይነቱ ዝቅተኛ የማስቀመጫ መጠን ልክ እንደ ሌሎች የማስቀመጫ ዘዴዎች ተመሳሳይ የንጽህና ደረጃ ለመድረስ በቂ የሆነ ከፍተኛ ክፍተት ያስፈልገዋል.

ከላይ የተገለጸውን እጅግ በጣም ከፍተኛ ቫክዩም ለማሟላት የMBE መሳሪያ (Knudsen cell) የማቀዝቀዝ ንብርብር አለው፣ እና የእድገት ክፍሉ እጅግ በጣም ከፍተኛ የሆነ የቫኩም አከባቢ በፈሳሽ ናይትሮጅን ዝውውር ስርዓት መጠበቅ አለበት።ፈሳሽ ናይትሮጅን የመሳሪያውን ውስጣዊ ሙቀት ወደ 77 ኬልቪን (-196 ° ሴ) ያቀዘቅዘዋል.ዝቅተኛ የሙቀት መጠኑ በቫኪዩም ውስጥ ያሉትን ቆሻሻዎች ይዘት የበለጠ ይቀንሳል እና ስስ ፊልሞችን ለማስቀመጥ የተሻለ ሁኔታን ይሰጣል.ስለዚህ ለኤምቢኤ መሳሪያዎች ተከታታይ እና ቋሚ የፈሳሽ ናይትሮጅን -196 ዲግሪ ሴንቲግሬድ የፈሳሽ ናይትሮጅን አቅርቦትን ለማቅረብ የተለየ የፈሳሽ ናይትሮጅን ማቀዝቀዣ ስርዓት ያስፈልጋል።